多級粉砕装置｜株式会社真壁技研

多級粉砕装置　＜特許対象商品＞

真空排気後、不活性ガスを溶解チャンバーに置換させた後、高周波誘導溶解により溶解した金属を第一段階としてガスで粉砕させます。次に、霧状に液滴化させた金属を第二段階として冷媒を供給した高速回転しているディスク上に衝突させます。多段階的に溶解試料を粉砕及び急冷するためアモルファスやナノ結晶などの非平衡組織を有する微細粉末の作製にメリットを有します。

原理	外観
ＳＥＭ(CU)	粒度分布(CU)